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光解水反應(yīng)釜CY-GHX-AC實(shí)驗(yàn)室光催化裝置

產(chǎn)品特點(diǎn):光解水反應(yīng)釜CY-GHX-AC實(shí)驗(yàn)室光催化裝置產(chǎn)品說(shuō)明:
川一儀器系列光化學(xué)反應(yīng)儀, 又稱為光化學(xué)反應(yīng)釜,多功能光化學(xué)反應(yīng)器.主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動(dòng)體系、紫外光或模擬可見(jiàn)光照、以及反應(yīng)容器是否負(fù)載TiO2光催化劑等條件下的光化學(xué)反應(yīng)。光化學(xué)反應(yīng)儀器又稱(光化學(xué)反應(yīng)釜,光化學(xué)反應(yīng)器,光催化反應(yīng)器,光催化反應(yīng)儀光催化反應(yīng)裝置)都是光化學(xué)儀器系列,

更新時(shí)間:2024-07-23

產(chǎn)品型號(hào):

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

生產(chǎn)地址:杭州

產(chǎn)品詳情

光解水反應(yīng)釜CY-GHX-AC實(shí)驗(yàn)室光催化裝置

主要特征:

1.光化學(xué)反應(yīng)儀智能微電腦控制,可觀察電流和電壓實(shí)時(shí)變化

2.進(jìn)口光源控制器,內(nèi)置光源轉(zhuǎn)換器,功率連續(xù)可調(diào),穩(wěn)定性高

3. 光化學(xué)反應(yīng)儀具有分步定時(shí)功能,操作簡(jiǎn)便

4.反應(yīng)暗箱內(nèi)壁使用防輻射材料,且?guī)в杏^察窗

5.采用內(nèi)照式光源,受光充分,燈源采用耐高壓防震材質(zhì),經(jīng)久耐用

6.配有8(6/12可選)位磁力攪拌裝置,使樣品充分混勻受光

7.雙層耐高低溫石英冷阱,可通入冷卻水循環(huán)維持反應(yīng)溫度

8.光化學(xué)反應(yīng)儀高溫度保護(hù)系統(tǒng),自動(dòng)斷電功能

9.機(jī)箱外部結(jié)構(gòu)設(shè)有循環(huán)水進(jìn)出口,內(nèi)部設(shè)有2個(gè)插座,供燈源和攪拌反應(yīng)器用

光解水反應(yīng)釜CY-GHX-AC實(shí)驗(yàn)室光催化裝置光化學(xué)過(guò)程是地球上普遍、量重要的過(guò)程之一,綠色植物的光合作用,動(dòng)物的視覺(jué)。涂料與高分子材料的光致變性,以及照相、光刻、有機(jī)化學(xué)反應(yīng)的光催化等,無(wú)不與光化學(xué)過(guò)程有關(guān)。
近年來(lái)得到廣泛重視的同位素與相似元素的光致分離、光控功能體系的合成與應(yīng)用等,更體現(xiàn)了光化學(xué)是一個(gè)活躍的領(lǐng)域。光化學(xué)反應(yīng)與一般熱化學(xué)反應(yīng)相比有許多不同之處,主要表現(xiàn)在:加熱使分子活化時(shí),體系中分子能量的分布服從玻耳茲曼分布;而分子受到光激活時(shí),原則上可以做到選擇性激發(fā)。體系中分子能量的分布屬于非平衡分布。所以光化學(xué)反應(yīng)儀的途徑與產(chǎn)物往往和基態(tài)熱化學(xué)反應(yīng)不同。
光化學(xué)研究反應(yīng)機(jī)理的常用實(shí)驗(yàn)方法,除示蹤原子標(biāo)記法外,在光化學(xué)中早采用的猝滅法仍是有效的一種方法。這種方法是通過(guò)被激發(fā)分子所發(fā)熒光,被其他分子猝滅的動(dòng)力學(xué)測(cè)定來(lái)研究光化學(xué)反應(yīng)機(jī)理的。它可以用來(lái)測(cè)定分子處于電子激發(fā)態(tài)時(shí)的酸性、分子雙聚化的反應(yīng)速率和能量的長(zhǎng)程傳遞速率。
由于吸收給定波長(zhǎng)的光子往往是分子中某個(gè)基團(tuán)的性質(zhì),所以光化學(xué)提供了使分子中某特定位置發(fā)生反應(yīng)的手段,對(duì)于那些熱化學(xué)反應(yīng)缺乏選擇性或反應(yīng)物可能被破壞的體系更為可貴。光化學(xué)反應(yīng)的另一特點(diǎn)是用光子為試劑。
光化學(xué)的初級(jí)過(guò)程是分子吸收光子使電子激發(fā),分子由基態(tài)提升到激發(fā)態(tài)。分子中的電子狀態(tài)、振動(dòng)與轉(zhuǎn)動(dòng)狀態(tài)都是量子化的,即相鄰狀態(tài)間的能量變化是不連續(xù)的。因此分子激發(fā)時(shí)的初始狀態(tài)與終止?fàn)顟B(tài)不同時(shí),所要求的光子能量也是不同的,而且要求二者的能量值盡可能匹配。
光物理過(guò)程可分為輻射弛豫過(guò)程和非輻射弛豫過(guò)程。輻射弛豫過(guò)程是指將整體或部分多余的能量以輻射能的形式耗散掉,分子回到基態(tài)的過(guò)程,如發(fā)射熒光或磷光;非輻射弛豫過(guò)程是指多余的能量整體以熱的形式耗散掉,分子回到基態(tài)的過(guò)程。
決定一個(gè)光化學(xué)反應(yīng)儀的真正途徑往往需要建立若干個(gè)對(duì)應(yīng)于不同機(jī)理的假想模型。找出各模型體系與濃度、光強(qiáng)及其他有關(guān)參量間的動(dòng)力學(xué)方程,然后考察實(shí)驗(yàn)結(jié)果的相符合程度,以決定哪一個(gè)是可能的反應(yīng)途徑。一旦被反應(yīng)物吸收后,不會(huì)在體系中留下其他新的雜質(zhì),因而可以看成是“純”的試劑。

 1.項(xiàng)目背景

化學(xué)反應(yīng)釜是許多化工生產(chǎn)企業(yè)的重要生產(chǎn)設(shè)備,對(duì)其內(nèi)部的溫度、壓力、液位等參數(shù)的監(jiān)控,使它們符合工藝要求,可以保證化學(xué)反應(yīng)的順利進(jìn)行,使產(chǎn)品質(zhì)量得到提高。本項(xiàng)目就是模擬這種實(shí)際需求(但進(jìn)行了簡(jiǎn)化)來(lái)進(jìn)行開(kāi)發(fā)。化學(xué)反應(yīng)釜監(jiān)控系統(tǒng)設(shè)計(jì)為兩級(jí):監(jiān)控中心和參數(shù)采集器,
本模擬項(xiàng)目的監(jiān)控中心由4臺(tái)PC機(jī)組成一個(gè)局域網(wǎng),其中一臺(tái)用作數(shù)據(jù)庫(kù)服務(wù)器,一臺(tái)作通信機(jī),另二臺(tái)為管理客戶機(jī);參數(shù)采集器也是一臺(tái)PC機(jī)。 參數(shù)采集器是設(shè)置在化學(xué)反應(yīng)釜附近,負(fù)責(zé)采集本反應(yīng)釜的溫度、壓力、液位。本項(xiàng)目中用一臺(tái)PC機(jī)來(lái)模擬三個(gè)參數(shù)的 以太網(wǎng) 監(jiān)控中心 客戶機(jī) 客戶機(jī) 服務(wù)器 通信客戶機(jī) 參數(shù)采集 產(chǎn)生,這些參數(shù)可以通過(guò)RS-232串行口傳送給監(jiān)控中心的通信客戶機(jī),通信客戶機(jī)把接收到的參數(shù)存入相關(guān)數(shù)據(jù)庫(kù)表中,管理人員可在二臺(tái)客戶機(jī)上完成相應(yīng)管理功能。
注: •一臺(tái)PC機(jī)模擬三個(gè)參數(shù)的采集,可以用程序來(lái)自動(dòng)生成這三個(gè)參數(shù)。 •
通信客戶機(jī)采用輪循方式讀取三個(gè)參數(shù)采集器中的數(shù)據(jù)。
2.功能要求 •通信客戶機(jī)每隔10秒給三個(gè)參數(shù)采集器輪循發(fā)一次讀命令,參數(shù)采集器響應(yīng)命令并發(fā)送其采集的參數(shù),
通信客戶機(jī)接收參數(shù)后把其保存在對(duì)應(yīng)的參數(shù)表中。 •管理人員可以通過(guò)客戶機(jī)上的操作界面查詢?nèi)齻€(gè)參數(shù)的歷史度數(shù),并發(fā)命令讀取任一參數(shù)當(dāng)前數(shù)值。 •管理員可以通過(guò)客戶機(jī)上的操作界面實(shí)時(shí)的監(jiān)控反應(yīng)釜三個(gè)參數(shù)的變化,當(dāng)參數(shù)超過(guò)設(shè)定的上、下限值時(shí),應(yīng)報(bào)警(采用紅色、閃爍顯示)。 •
管理員可以通過(guò)客戶機(jī)上的操作界面來(lái)設(shè)置參數(shù)的報(bào)警上、下限值。 •
系統(tǒng)能用曲線形式表示反應(yīng)釜三個(gè)參數(shù)的變化,以24小時(shí)為一時(shí)段。
3.提示(僅作參考,詳細(xì)設(shè)計(jì)由項(xiàng)目小組自行進(jìn)行) •
采集參數(shù)時(shí)是以監(jiān)控中心為主動(dòng)方,而不是參數(shù)采集器主動(dòng)發(fā)送; •需要設(shè)置的數(shù)據(jù)庫(kù)表:溫度參數(shù)表、壓力參數(shù)表、液位參數(shù)表、參數(shù)上、下限值表等。

 

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